La liste des nominés de la cinquième édition du Prix LVMH a été dévoilée

Comme chaque année, les jeunes créateurs du monde entier se retrouveront autour du prix LVMH, afin de présenter leurs créations.

Les nominations pour le prix LVMH ont été annoncées hier. Depuis sa création en 2014, le prix LVMH connaît un succès international, représentant une véritable opportunité pour les jeunes créateurs du monde entier. Cette cinquième édition confirme son aura auprès des principaux concernés, s’affirmant comme une référence dans le milieu de la création, puisque 1300 candidats issus de 90 pays différents ont tenté leur chance.

Néanmoins, seuls 20 créateurs ont été pré-sélectionnés pour cette demi-finale, qui aura lieu les 1er et 2 mars prochains à Paris. Ces demi-finalistes sont originaires du Royaume-Uni, de la Chine, de la France, des États-Unis ou encore du Vietnam, pour une sélection regroupant des univers passablement différents. Le premier prix, décerné à la Fondation Louis Vuitton de Paris, récompensera le designer le plus prometteur, en finançant ses projets à hauteur de 300 000€, tout en proposant un soutien technique à celui-ci. Découvrez-ci dessous la liste des candidats présélectionnés.

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– A-COLD-WALL par Samuel Ross (créateur britannique basé à Londres). Mode masculine présentée à Londres.

– AKIKOAOKI par Akiko Aoki (créatrice japonaise basée à Tokyo). Mode féminine présentée à Tokyo.

– BOTTER par Rushemy Botter & Lisi Herrebrugh (créateurs hollandais basés à Anvers). Mode masculine présentée à Paris.

– CHARLES JEFFREY LOVERBOY par Charles Jeffrey (créateur britannique basé à Londres). Mode féminine et masculine présentée à Londres.

– DOUBLET par Masayuki Ino (créateur japonais basé à Tokyo). Mode unisexe présentée à Tokyo.

– ECKHAUS LATTA par Zoe Latta & Mike Eckhaus (créateurs américains basés à New York et Los Angeles). Mode féminine et masculine présentée à New York.

– EDDA par Edda Gimnes (créatrice norvégienne basée à Oslo). Mode féminine présentée à Londres.

– ERNEST W. BAKER par Reid Baker & Ines Amorim (créateurs américain et portugais basés à Anvers). Mode masculine présentée à Paris.

– FAUSTINE STEINMETZ par Faustine Steinmetz (créatrice française basée à Londres). Mode unisexe présentée à Londres.

– GMBH par Serhat Isik & Benjamin Alexander Huseby (créateurs allemand et norvégien basés à Berlin). Mode unisexe présentée à Paris.

– KWAIDAN EDITIONS par Léa Dickely & Hung La (créateurs français et américano-vietnamien basés à Londres). Mode féminine présentée à Paris.

– LUDOVIC DE SAINT SERNIN par Ludovic de Saint Sernin (créateur français basé à Paris). Mode unisexe présentée à Paris.

– MAGDA BUTRYM par Magdalena Butrym (créatrice polonaise basée à Varsovie). Mode féminine présentée à Paris.

– MARTA JAKUBOWSKI par Marta Jakubowski (créatrice allemande basée à Londres). Mode féminine présentée à Londres.

– MATTHEW ADAMS DOLAN par Matthew Adams Dolan (créateur américain basé à New York). Mode unisexe présentée à New York.

– NIHL par Neil Grotzinger (créateur américain basé à New York). Mode masculine présentée à New York.

– OTTOLINGER par Christa Bösch & Cosima Gadient (créatrices suisse basées à Berlin). Mode féminine présentée à Paris.

– ROKH par Rok Hwang (créateur coréen basé à Londres). Mode féminine présentée à Paris.

– SNOW XUE GAO par Snow Gao (créatrice chinoise basée à New York). Mode féminine présentée à New York.

– THE SIRIUS par Younchan Chung (créateur coréen basé à Séoul). Mode unisexe présentée à Paris.

Cette année, le casting relativement varié reflète des évolutions de la mode. On note en effet une entrée spectaculaire de la mode unisexe, déjà présente ces dernières années, ainsi que la place de la mode urbaine, de plus ancrée dans le paysage créatif des jeunes talents. Reste maintenant aux 20 créateurs à rencontrer les 48 experts internationaux du monde de la mode, tels que Marc Jacobs, Karl Lagerfeld et bien d’autres, qui éliront les 8 finalistes en mars prochain.

Dans le reste de l’actualité, la collaboration minimaliste de Saintwoods et Places+Faces est désormais disponible.